灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

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灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

赵志岩, 周明于, 郝超

文章导航 > 金刚石与磨料磨具工程 > 2016 > 36(1): 31-33

赵志岩, 周明于, 郝超. 灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

引用本文:

赵志岩, 周明于, 郝超. 灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

ZHAO Zhiyan, ZHOU Mingyu, HAO Chao. Influence of distance between filaments on preparation of diamond thick films[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

Citation:

ZHAO Zhiyan, ZHOU Mingyu, HAO Chao. Influence of distance between filaments on preparation of diamond thick films[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

赵志岩, 周明于, 郝超. 灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

引用本文:

赵志岩, 周明于, 郝超. 灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

ZHAO Zhiyan, ZHOU Mingyu, HAO Chao. Influence of distance between filaments on preparation of diamond thick films[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

Citation:

ZHAO Zhiyan, ZHOU Mingyu, HAO Chao. Influence of distance between filaments on preparation of diamond thick films[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(1): 31-33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.1.0007

廊坊西波尔钻石技术有限公司, 河北廊坊 065300

作者简介:
赵志岩,男,1983年生,硕士研究生。现从事CVD金刚石膜研究。E-mail:zhaozhiyan@xiboer.com

中图分类号: TQ164
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出版历程
- 修回日期: 2015-12-20
- 网络出版日期: 2022-07-27

Influence of distance between filaments on preparation of diamond thick films

Langfang Supower Diamond Technology Co., Ltd., Langfang 065300, Hebei, China

摘要: 采用热丝化学气相沉积方法制备CVD金刚石厚膜，通过改变灯丝间距和增加围挡，获得生长速度7.5 μm/h，热导率1028 W/（m·K），结构致密，无孔洞，甚至透红光的CVD金刚石厚膜。
- 热丝化学气相沉积 /
- 金刚石厚膜 /
- 灯丝间距 /
- 围挡
Abstract: Diamond thick films are fabricated by hot filament chemical vapor deposition(HFCVD).The distance between filaments and enclosure are investigated to obtain high quality diamond thick films.By changing the distance between filaments and setting up enclosure,the growth rate can be up to 7.5 μm/h,and the thermal conductivity can be 1028 W/(m·K).The diamond films have dense structure and even let the red light through.
- hot filament chemical vapor deposition /
- diamond thick films /
- distance between filaments /
- enclosure

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